四輪問答，過關斬將，尹志堯（中微公司創始人、董事長及總經理）統領的中微公司僅用2個多月的時間，即于6月11日晚間披露了招股書上會稿。

    作為首家“四問”后上會的公司，中微公司有什么“真功夫”？“技術研發能力出色，產品性能良好，中微公司的市場競爭力已不容小覷。”在大規模使用了中微公司MOCVD設備（金屬有機化合物化學氣相沉淀，是生產LED芯片的關鍵設備）后，華燦光電總裁劉榕如此評價。另有資深半導體裝備業內人士評述，“這是一顆冉冉升起的國際半導體裝備‘新星&rsquo！dquo;

    從刻蝕設備打破國際領先企業在中國市場的壟斷，到成為全球MOCVD龍頭，再到5nm等離子體刻蝕設備應用到全球最領先的晶圓制造廠，中微公司在中國創“芯”的當下，一直勇立潮頭，用技術創新來為“中國芯”保駕護航。

    打破國外壟斷專利訴訟從未輸過

    提到半導體，國人首先想到的就是被國際先進“卡脖子”，尤其是半導體裝備，更是國人長期的“心痛”。如今，中微公司用自己的堅韌和努力，一點一滴地改變著這個狀況。

    2015年，美國商務部工業和安全局（BIS）發布了一個特別的公告：由于中國一家公司已經做出了和美國設備公司有相同質量和數量的等離子體刻蝕機，所以取消對中國的刻蝕機出口管制。這家公司正是中微——全球半導體裝備新秀。

    之后，中微公司在MOCVD領域再獲佳績。2010年，中微公司開始研發用于LED器件加工中最關鍵的設備——MOCVD，到2017年逐步打破美國Veeco（維易科）、德國愛思強等國際廠商的壟斷。

    中微公司何以能打破國外壟斷？在業內人士看來，這是一家具有“巨人基因”的公司。2004年，尹志堯帶領一個豪華的全球化團隊，創辦了中微公司，致力于半導體裝備的國產化。彼時，尹志堯已經在半導體領域耕耘20載，先后在Intel、泛林半導體、應用材料等頂級國際半導體公司擔任要職，具有豐富的半導體裝備領域經驗。中微公司的其他聯合創始人、核心技術人員如杜志游、倪圖強、麥仕義也都是這個領域的頂尖人才。

    集成電路是一個“板凳要坐十年冷”的產業，其中的半導體裝備細分領域更是如此。中微公司在這個領域跋涉了11年，才迫使美國放開在刻蝕機領域的壟斷;奮斗了14載，才在全球氮化鎵基LEDMOCVD設備市場占據主導地位。

    真正的高科技公司都是研發打頭陣。2016年至2018年，中微的研發支出分別是3.02億元、3.3億元、4.04億元，占其當期營收的比例分別為49.62%、34%、24.65%。

    2017年11月，在Veeco申請禁止SGL出售采用其專利的石墨盤給中微公司時，中微公司最終贏得了起訴Veeco專利侵權的關鍵專利有效性審決。

    這是最讓尹志堯驕傲的事情之一——憑借強大的自主研發，中微公司從未輸過任何專利訴訟。

    據招股書，截至2018年末，中微公司共涉及4起海內外知識產權訴訟案件，涵蓋2件專利案件和2件商業秘密案件，公司在訴訟中均達成和解或勝訴，以事實證明了公司具有較堅實的知識產權地位和應對國際復雜的知識產權挑戰的能力，為公司的健康發展提供了有力保障。

    “中微公司面臨國際巨頭的訴訟一點都不奇怪，它干的就是搶巨頭蛋糕的活。”面對中微從創立起就面臨的一個接一個訴訟，某國際半導體裝備公司高管對記者解釋道，半導體行業其實是一個高度集中的市場，幾乎每個細分領域的前三家都占據了近九成的市場份額，新進入者嶄露頭角自然備受打壓。

    刻蝕設備打入5nm

    MOCVD國際先進行列

    臺積電在5月份的技術論壇上透露，5nm制程生產線一期已經開始裝機，預計明年一季度量產。因此，中微公司再次成為市場的焦點。

    中微公司在招股書中披露，其自主研發的等離子體刻蝕設備已廣泛應用于國際先進的14nm、7nm和5nm生產線。

    中微創立之初，就將目光瞄準了刻蝕設備領域。“等離子刻蝕機的加工精度相當于頭發絲的五千分之一，還要求有持續的穩定性。”在前述國際半導體裝備公司高管看來，正是在工藝、設計等領域的精湛技術，以及數十年如一日的堅持，使得中微可以擁有打破壟斷的實力。

    僅用了3年，中微公司就于2007年拿出了第一代介質刻蝕機。同年7月，中微公司進入清科集團的“2007年中國最具投資價值企業50強”榜單。也就是在這一年，中微公司成為了國際半導體巨頭的眼中釘，專利訴訟開始接連不斷。

    目前，中微公司在刻蝕設備領域和MOCVD領域都進入了全球先進行列。

    在刻蝕設備領域，據中微公司披露，14-7納米CCP介質刻蝕機研發及產業化、用于先進邏輯電路的CCP刻蝕設備均達到國際先進水平，用于存儲器刻蝕的CCP刻蝕設備處于追趕先進水平。

    “研發能力出色，產品性能良好。”在大規模采購并使用了中微公司的MOCVD后，華燦光電總裁劉榕在接受采訪時給出了這樣的評價。目前，中微公司已開發了三代MOCVD設備，高溫MOCVD設備、30英寸大尺寸MOCVD設備、新型高產能MOCVD設備均達到國際先進水平，產品被三安光電、華燦光電、乾照光電等多家一流LED制造大廠大批量采購，逐步實現國產替代。

    實力擔當之下，中微公司承擔了多項國家科技重大專項等課題。據招股書，自2009年起，中微公司先后承擔了65-45nm介質刻蝕機研發與產業化、32-22nm介質刻蝕機研發與產業化、22-14nm介質刻蝕機開發及關鍵零部件國產化、14-7nm介質刻蝕機研發及產業化、刻蝕工藝零部件驗證與應用等國家科技重大專項，以及高端MOCVD設備研發及產業化、450mm大尺寸刻蝕機研發等上海市項目。

    開拓創新，在半導體裝備領域攻城略地，中微公司拿獎拿到手軟。據披露，中微公司共榮獲了69項知名獎項，如在2018年度VLSIResearch“客戶滿意度”調查中位居全球半導體設備公司的第三名，在刻蝕和清洗設備供應商排名中位列第二，在全球薄膜沉積設備供應商排名中榮登榜首。

    志在全球深度受益國內IC發展

    “隨著我國半導體產業的持續發展，中微公司迎來快速成長期。”對于中微公司的發展前景，有產業研究人士認為，在摩爾定律引導下，全球新建生產線超過60條，其中超過四成在中國，這給中微公司帶來巨大機遇。

    “到2020年，僅芯片前端設備的市場規模將達到300至400億美元。”尹志堯在2017年某次演講中曾引用相關數據，描述了中微公司從事的刻蝕和化學薄膜設備的良好市場前景。“我們統計，2016年到2020年，半導體設備投資為748億美元，其中等離子體刻蝕設備投資大約為134.7億美元，中微的刻蝕機可以得到相當大的份額。”

    盡管前景是光明的，但道路是曲折的。在創業之初，尹志堯和中微公司沒有少受“錢”的折磨。

    據一半導體裝備人士介紹，高技術、高投入、高風險，是半導體行業的典型特征;加上投資周期長，半導體裝備領域就更難尋求到市場化的資金。

    這個時候，政府基金尤其是像國家集成電路產業投資基金（簡稱“大基金”）這樣的專項基金的重要性就凸顯出來。據披露，自2016年至2018年，中微公司先后啟動了多輪融資，引入了巽鑫投資、上海創投、國開創新、浦東新興等多家國資背景的機構股東。

    招股書顯示，中微公司第一大、第二大股東上海創投、巽鑫投資分別持股20.02%、19.39%。其中，巽鑫投資成立于2014年12月，是大基金100%控股的子公司。上海創投是上海科技創業投資（集團）有限公司100%控股的子公司，實際控制人為上海市國資委。

    “回顧半導體發展史，各國的半導體裝備產業都是在政府支持下才有了大力發展。”對于政府對產業的支持，上述產業研究人士給予了充分的肯定。

    中微公司的快速發展也有力地證明，在半導體領域尤其是半導體裝備材料領域，政府扶持具有相當重要的作用。財務數據顯示，中微公司2016年至2018年營業收入分別為6.1億元、9.72億元、16.39億元，年均復合增長率為64.00%;歸母凈利潤分別為-2.39億元、2991.87萬元、9086.92萬元。

    “盡管中微公司已經很成功，但到目前為止，只不過是從國際巨頭的嘴里撕下來一小塊肉。面對它們占有超九成的市場份額、長期積累的研發技術能力，中微公司一刻都不可以懈怠和掉以輕心。”有國際半導體設備大廠的人士提醒，在半導體裝備領域，如果進入不了全球前2名行列，面對技術的快速迭代，公司也就無法形成長期的市場競爭力、持續的研發能力。